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蚀刻如何工作

发表时间: 2020-06-12 0:02:16浏览: 36
[文字]是在工作面上添加蚀刻剂。该蚀刻剂将引起与工件的腐蚀化学反应,并通过该化学反应除去工件表面的表面材料。如果蚀刻剂是液体,则称为湿法蚀刻,如果蚀刻剂是气体,则称为干法蚀刻。常规蚀刻主要是利用液体蚀刻剂的湿蚀刻,但是近年来,使用气体等离子体等的干蚀刻技术已被广泛采用。特别地,干蚀刻是在硅晶片上处理具有亚微米精度和微米(μ,m)尺寸的大规模集成电路的主要方法。湿蚀刻是宏观反应,其中工作物质溶解在蚀刻剂中而不改变其化学性质。但在微观层面上,它是一个包含一个或多个化学反应的过程,例如氧化,还原,络合物形成和气体反应。通常,湿法蚀刻基于氧化和还原反应。当用强酸,强碱等蚀刻工件时,工件表面的晶体结构会产生规则的电位差,并形成许多阴极和阳极区域,可以在没有外部电场的情况下产生均匀的电解反应和蚀刻。 。反应期间的温度和时间控制非常重要。在干蚀刻中,等离子体蚀刻主要用于通过化学反应进行蚀刻。等离子蚀刻是在低压下引入气体,导致辉光放电产生低温和低压离子等离子体,该等离子体利用受激的逆反应形成挥发性物质,并排出以进行蚀刻。
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