激光电镀技术的优势

[文本]激光电镀是一种新兴的高能束电镀技术，对于微电子器件和大规模集成电路的生产和修复具有重要意义。目前，尽管仍在研究激光镀，激光烧蚀，等离子激光沉积和激光喷射的原理，但是它们的技术已经在实际使用中。当在镀浴中对阴极表面照射连续激光或脉冲激光时，不仅可以大大提高金属的沉积速度，而且可以通过计算机控制激光束的轨迹，从而获得所需复杂几何形状的非屏蔽涂层。在1980年代，开发了激光增强镀层的新技术。激光增强电镀技术与电镀液喷射相结合，使激光和电镀液同时撞击阴极表面。传质速率大大超过了激光辐照引起的传质速率。微搅拌的传质速度，从而实现了很高的沉积速率。激光电镀是经典技术与现代技术的结合。它是一种新兴的高能束镀技术。激光技术的使用可以提高金属沉积速度，效率提高了1000倍。当使用连续激光或脉冲激光照射镀浴中的阴极表面时，不仅可以增加沉积速度，而且可以通过计算机来控制激光束的轨迹。获得具有所需复杂几何形状的非屏蔽涂层。与普通电镀相比，具有以下优点：（1）沉积速度快，如激光镀金可达1mu，m / s，激光镀铜可达10mu，m / s，激光喷镀金可达12mu，m / s。 s，激光镀铜可以达到50mu，m / s，（2）仅在激光辐照区发生金属沉积，无需遮挡措施即可获得局部沉积镀层，简化了生产工艺，（3）附着力大大提高。 （4）易于实现自动控制，（5）节省贵金属，（6）节省设备投资和加工时间。